Хагасдамжүүдийн үйлдвэрлэлд хоолойн даралт бууруулагчид

Ядра Зөөврийн бомб Хагасдамжуулагчийн цэвэр өрөөнүүдийн технологи

Тосгүй хоолойн даралтыг бууруулах насосууд: тосгүй, бөөрөнхийлөгүй боловсронгуй процессын үүрэгтүүн хэрэгсэл

Хуурай вакуум насосууд нь тослолын тосгүй ажилладаг — түүнээр хагасдүүрэлт үйлдвэрлэлд шууд нөлөөлж, гаралт хэмжээг бүүр уруулах гидрокарбон бохирдол ба жижиг хэсцүүдийн үүсэл арилгагдаж. Түүний герметик хаалттай, тосгүй механизм нь химийн уурлалт (CVD) ба EUV литографи гэх мэт чухал технологийн үед хойшоо урсгал ба наномасштабын бохирдлуудын орж ирэхийг саатуулж. Түүнээр 10 нм-с бага зангилаа үйлдвэрлэлд онцгой чухал ач хойртой болгох бөгсөн, ялангуяа Класс 0 цэвэрлэгдүүрлүүн стандартуудад 0,1 мг/м³-с доош хэсцүүдийн түвшин ба гидрокарбон хувь нь тодорхойлох шаардлагатай. ⁻³доош ⁻⁹мбар хүртэлх дамжуулалт хязгаарт бүүр уруулах, засвар үйлдлүүн хугацаанд ажиллах чадварыг хангаж.

Турбо-молекулар ба Криоген насосууд: Чухал технологийн үе шатуудад ультра-өндөр вакуум хангаж

Ультра-өндөр вакуум (UHV) орчин — 10 ⁻⁷mbar — атом давхарга наносадна (ALD), ион хуурцагт бүрхүүл, өндөр нарийн хэмжилтийн үйлдэлд шаардлагатай. Турбо-молекулар хөдөлгүүрүүд нь 10-с илүү шахуурга харьцаа үзүүлдэг эргэдэг хавтас цуглуулалтаар гярхай хийн даралтыг түргэн холбогдуулж, даралт тогтвортой байдлыг шилжилтийн ачаалалд ±1% хүртэл хадгалж чаддаг. ¹⁰хөхрүүлэгч хөдөлгүүрүүд нь хийн молекулүүдийг суперхөхрүүлсэн гадаргууд (−150°C-с доош) дээр шингээж, хурдан дулааны бүрхүүл үйлдэл (RTP) үед үүсдэг гярхай хийн урсгалын үед онцгой багтаамж үзүүлдэг. Түүний идэвхгүй барих механизм вакуум камер дотор хөдөлгүүрт детальд ашигладаггүй, түүн дээр найдвартай байдлыг дээшлүүлж, бөмбөлөгүүдийн үүсэлтийг бууруулдэг.

Анхны хөдөлгүүрүүд (спираль, Рутс, шингэн цагаан): атмосферийн даралтаас өндөр вакуум хүртэл үр дүнтэй холбогдуулж чаддаг

Анхны хөдөлгүүрүүд анхны вакуум түвшнийг бүрдүүлдэг — атмосферийн даралтаас ойролцоогоор ~10 ⁻³mbar—өндөр вакуум системүүдийн үр дүнтэй идэвхжихийг хангах. Шургуун насосууд нь бөөрсгүүдийн хувьд майхан шаардлагагүй, хушаалт хоолойн төлөөлөлгүй анхдагч вакуумыг үүсгэнэ; рутс насосууд нь гибрид бүрдүүлэлтүүдэд өндөр хурдны туслах насосууд болойдоо, үр дүнтэй сүүдлүүр хурдыг 5–10 дахин нэмэгдүүрнэ. Шингэн цагаан насосууд нь плазма шүүрлүүдтэд түгээмүүр ажилд гарч буй коррозив ба конденсацид орж чадах технологийн бүтээдсүүдийг ус-хоргодоо шүүрлүүр шүүрлүүрт нь шингэн цагаан шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүүрт нь шүүрлүү......

Хүчтэрүүдийн хувьд чип үйлдвэрлэлд шаардлагадаг вакуум насосууд

CVD, PVD ба шүүрлүүд: Технологийн химийн шаардлагадаг сүүдлүүр хурдыг ба хийн нийцүүрт нь тааруулах

Химийн ууршмал тунадасжуулалт (CVD), физик ууршмал тунадасжуулалт (PVD) ба плазмын шүүрэлд хурдны хамт химийн төдийлэн төвөгтэй нөхцөлд төлөөлж чадах вакуум насосууд шаардагдаж буй. Хлор- ба фтор-суурьт шүүрэлд коррозид төдийлэн төвөгтэй сухой насосууд — их түүдүглүүрт цэрэмик хучилт, никель-хавсарга корпусын хамт — деградацийн үүднээс зайлшгүй холдож, дундаж гэмтэл хоорондын хугацаа (MTBF) 20 000 цагаас илүү байхыг хангаж буй. Харин тонкон цуцал тунадасжуулалтын процессын үед ультра-өндөр вакуумыг хадгалах, реагентийн хуримтлалыг саатуулж буй турбомолекулар насосууд ашиглагдаж буй; жижиг даралт хэлбэлзлийн үр дүнд цуцлын зүйл зүйлд ±2%–аас илүү хазайлт үүсгэж, төхөөрөмжийн нэдүүрлүүрт хохироо үүсгэж буй. Сонгогдсон насосын хурд нь өндөр түвшний техник процессуудад бөөмийн бохирдлыг хүртэл 40%–иар бууруулж, шууд үйлдвэрлэлийн гарцад сайн нөлөө үзүүлж буй.

Ионы хийн хүртэл оруулалт ба хурдан температурт халуун хийн хүртэл оруулалт: Дүрсийн хийн ачааллыг ба дулааны үүднээс гарч буй хийн ялгаралыг удирдах

Ионы хурдасгагч төхөөрөмж ба хурдан дулааны боловсруулалт (RTP) экстремал, богино хугацаат вакуумын дуудлагуудыг үүсгэнэ. Ионы хурдасгагч төхөөрөмжинд фотон-индуцирован газын ялгарал нь суурь түвшнийхөөс гурван зэрэглэл дээш даралтын үзүүрлүүдийг үүсгэнэ — иймд насосууд нь миллисекундын хариу үйлдлийн хурд шаардаж. Рутсын сүүдэр насосууд ба шурууп-типын дэмжигч насосууд хамтран ажиллахдаа камерийн даралтыг мөртөөнхийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохицуулалтыг үзүүрлүүдийн хүртэл тогтвортой байлгахад шаардагдах динамик хурдны зохи...... доторх , 600 м³/цаг-аас дээш урсгалыг хадгалж, транзисторын шүүлтүүдийн хүчдлийн хазайлтыг 5 нм-с бага зэрэглэлд илүүдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүлдүүл......

Баглаа бүрхүүлийн хяналт: Вакуум насосын загварын дизайн нь шилдэг төвөгтөйн үр дүнд шууд нөлөөлөх арга

Дэд-10 нм процессын зангилаа дээр дүрсийн хаяглалт хагас бүтэцтүүдийн хувьд бохирдлуудад үл хөдлөх мэдрээмүүр бүхий — ганц гидрокарбон молекул юм уу 5 нм хэмжээтүүдийн бөөрсүүд үхлийн гэмтлийг үүсгэж чадна. Хуурай вакуум насосын технологи нь тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын үндсэн үүсгүүр болой тосон төлөөлөлд бүтэцтүүдийн хувьд гидрокарбон хөндлөн урсгалын......

Даатгалын тогтвортой, масштабируем фабрик үйлдсүүдийн хувьд вакуум насосыг сонгох ба интеграцилах

Вакуум насосыг сонгох нь анхны үнэс бүрдүүлэх хүчин зүйлсийн дунд хамгийн чухал биш, харин масштаблах боломж, технологийн процесст тохируулалт, нийт эзлэмжийн үнэ (TCO) гэх мэт олон талт үзэлд тулгуурлан хийгдэх ёстой. Модуль хүчтүүлэл нь нэг камерийн төхөөрөмжөөс централизован, ургамлын дагуу бүх вакуум системүүд рүү хялбархан өргөтгөх боломжийг олгож, үйлдвэрлэлийн өсөлтийн хамт капиталын үр ашигтай масштаблахыг хангаж өгдөг. Материалын ховдруулалт — жишээ нь, хлор агуулдаг травленд хастеллои хоолой, RTP-д усархуу керамика — технологийн процессын химийн найрлагад тохируулж, урт хугацааны ажиллах чадварыг хангаж, бохирдлын хяналтыг хезэх ёстой. Амьдралын циклд суурилдаг үнэлэлт нь шаардлагатай: нэг насос 24 цагийн дотор тасралтгүй ажилладаг тохиолдолд зөвхөн цахилгааны зардал нь жилийн дотор ~18 000 доллар бүрдүүлдөг; төлөвлөгдөөгүй зогсолт нь үйлдвэрлэлийн гарцад илүү хүнд сөрөг нөлөө үзүүлдөг. Интеграцийн амжилт нь стандартизован дижитал интерфейсүүд (SEMI EDA/E54-т нийцүүлсэн) ба бүтээдүүлсэн диагностикас наад захын шаардлагатай: түүнээр суурилтуурын хугацаа 30%-иар бүүрдүүлдөг, урьдчилан таамаглаж болох техник үйлчилгээг хангаж, дундаж гэмтлийн арилгах хугацаа (MTTR) бүүрдүүлдөг, үйлдвэрлэлийн нийт үйл ажиллагааны төвхөн бүтэц бүүрдүүлдөг.

Түүн дээрх асуулт хариулт

Семикондукторын цэвэр танхимд хуурай вакуум насосыг юунд ашигладаг?

Хуурай вакуум насосууд нь гидрокарбон боолголт ба бөөмүүдийн үүсэлтийг арилгаж, хагасдамжуурлын үйлдвэрлэлд гарцад шууд нөлөөлж, төрөлхийн тосгүй, бөөмгүй боловсруулалтад онцгой чухал юм. Түүдүүвчилж, 10 нм-с бага зангилааны үйлдвэрлэлд Класс 0 цэвэршилтийг хадгалахад түүдүүвчилж.

Хүчтүүр молекулар ба хүйтэн насосууд полупроводник процессын хувьд яагаад чухал вэ?

Хүчтүүр молекулар ба хүйтэн насосууд атом давхарга нөхөлт (ALD) ба ион орлуулалт зэрэг чухал технологийн үе шатуудад шаардлагатай ультра-өндөр вакуумыг үүсгэнэ. Түүдүүвчилж, вакуум камерад бөөмүүдийн аюул сүүлд хүртэлх газын сүүдлүүдийн тогтвортой бүүрдүүлэлт ба багтаамжийг үзүүрлүүд.

Анхны вакуум насосууд полупроводник үйлдвэрлэлд яаж туслах вэ?

Анхны вакуум насосууд анхны вакуум түвшнийг бүүрдүүлж, өндөр вакуум системүүдийн үр дүнтэй ажиллахыг хангаж. Түүдүүвчилж, плазма шүүрлүүд зэрэг хэрэглээсүүдэд коррозион ба конденсацид орж чадах технологийн хаягдмал бүтээдүүдийг хүлээн авахын тулд зохиомжилж.

Боолголтын хяналт ваферийн гарцад ямар үүрэг гүйцэтгэх вэ?

Дагуулд хориглолтын хяналт нь 10 нм-с бага технологийн зангилаанууд дээр онцгой чухал, учир нь дагуулд хориглолтод майхан хүчирхүйлт нь үхлийн гэмтэл үүсгэж, дагуулд үр дүнг нь хүчтэй нөлөөлж, түүнийг хориглолтоос хамгаалах вакуум насосын дизайн нь тосон төлөөлөл арилгаж, бөөрсгөн хэсгүүдийн ялгаруулалтыг бүүр илүү бууруулж, дагуулд үр дүнг нь хүчтэй нөлөөлж.